德國安思羅斯Anseros  COM-VD大型臭氧發(fā)生器特點

ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器COM-VD系列是在低氧氣消耗量的氣相中，臭氧最高濃度可達到 300g O3/Nm3。

MEGAGEN系列臭氧發(fā)生器COM-VD能與ANSEROS安索羅斯AOPR反應器配合使用，其質(zhì)量轉(zhuǎn)移效果非常好，可以將大量的臭氧轉(zhuǎn)換成液相，從而達到強力去除COD的目的。

臭氧發(fā)生器MEGAGEN COM-VD系列數(shù)據(jù)表

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品特點：

最高臭氧濃度

低耗氧量

低功耗

相關(guān)反應性高

低AOPR(高級氧化工藝)能耗

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品應用：

+ AOP(高級氧化技術(shù))污水處理、去除COD

+ HOXON®廢水系統(tǒng), API廢水

+ 半導體加工（如晶圓清洗，電子元件臭氧清洗）

+ 除臭

+ 研發(fā)

+ 藥品生產(chǎn)

臭氧發(fā)生器在半導體晶圓清洗上的應用

晶圓清洗是目前半導體生產(chǎn)線上最重要、最嚴謹?shù)墓ば蛑?，在很多的清洗工序中，只要有一道工序達不到要求，就會導致征辟的芯片的報廢和流程不順暢，傳統(tǒng)的RCA清洗法需要大量的化學試劑，帶來了成本的增加以及均勻性不一致的問題，而臭氧是一種具有氧化性的氣體，把它溶解在超純水中，噴灑在晶圓表面，可以將表面的有機污染物氧化為二氧化碳和水，非常容易就可以去除表面有機物，同時還會在晶圓表面形成一層致密的氧化膜。因此德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器非常適合運用在半導體特別是晶圓清洗上。

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品規(guī)格：